特許

J-GLOBAL ID：200903080518691006

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト重合体の製造方法、及びフォトレジストパタ-ンの形成方法

発明者： 李 根守 ,  崔 彰日 ,  金 炯秀 ,  金 珍秀 ,  鄭 載昌 ,  鄭 ▲みん▼鎬 ,  白 基鎬
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-307544
公開番号（公開出願番号）：特開2000-159717
出願日： 1999年10月28日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】遠紫外線光源を利用するフォトリソグラフィー工程に適するフォトレジスト用単量体及びその製造方法を提供する。【解決手段】遠紫外線光源を利用するフォトリソグラフィー工程に適するフォトレジスト用単量体及びその製造方法に関するものであり、下記式(1)の化合物を製造する。【化1】前記式で、XはCH2、CH2CH2、またはOであり、R1は水素または-R'OHであり、R2は水素、-OH、炭素数C1〜C5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、-OR''OH、または-(O-R''')n-OHであるが、このときR'及びR''は、それぞれ炭素数C1〜C5の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数C3〜C8のシクロアルキルであり、R'''は炭素数C2〜C5のアルキルで、nは2〜5のいずれかの整数である。

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示されるフォトレジスト単量体。【化1】前記式で、XはCH2、CH2CH2、またはOであり、R1は水素または-R'OHであり、R2は水素、-OH、炭素数C1〜C5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、-OR''OH、または-(O-R''')n-OHであるが、このときR'及びR''は、それぞれ炭素数C1〜C5の直鎖または枝分れ状のアルキルまたは炭素数C3〜C8のシクロアルキルであり、R'''は炭素数C2〜C5のアルキルで、nは2〜5のいずれかの整数である。

IPC (6件)：

C07C 43/317 ,  C07C 41/16 ,  C07C 43/315 ,  C08F 32/04 ,  C08F 34/02 ,  G03F 7/027

FI (6件)：

C07C 43/317 ,  C07C 41/16 ,  C07C 43/315 ,  C08F 32/04 ,  C08F 34/02 ,  G03F 7/027