特許
J-GLOBAL ID:200903080525439690

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-131370
公開番号(公開出願番号):特開平5-304074
出願日: 1992年04月27日
公開日(公表日): 1993年11月16日
要約:
【要約】【目的】 円輪または円輪状の2次光源を用いる投影露光装置において、原図基板露光領域の照明均一性を向上させることを目的とする。【構成】 均一化光学系3からの光束を第2集光光学系4で複数に分割集光し、その複数の光束を2次光源光学系5で分解し、その分解された光束を第3集光光学系6で重畳する。
請求項(抜粋):
原板上に描かれた形状を被露光基板に投影して露光する投影露光装置において、光を発する光源と、前記光源からの光を集光して所定の光束に整形する第1の集光光学系と、複数の棒状の要素レンズと部分的に光透過部を有する開口絞りとから構成され前記第1集光光学系で集光された光束を分解する均一化光学系と、前記均一化光学系の各要素レンズからの分解された光束を重畳し、その重畳した光束を分割集光して射出する第2の集光光学系と、前記第2の集光光学系により分割された光束を広げる2次光源光学系と、前記2次光源光学系からの分割されている光を重畳し集光する第3の集光光学系と、前記原板を透過した第3の集光光学系からの光を前記被露光基板に投影する投影露光光学系とを有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 26/02
FI (2件):
H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 S
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平4-225358

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