特許

J-GLOBAL ID：200903080527158787

液晶表示装置の製造方法

発明者： 平山 秀雄 ,  日高 浩二 ,  鳥山 重隆
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-071585
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258204
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 遮光特性、液晶配向特性が良好でかつ映り込みの少ない遮光膜を、剥がれることなく均一にパターニングすることができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 絶縁体中に、少くとも金属微粒子または半金属微粒子より選ばれた1種または2種以上の元素の微粒子が分散してなる遮光膜をパターニングに際し、金属微粒子の選択エッチングをpH3からpH5のエッチング液にて行う。

請求項（抜粋）：

第1の基板上にスイッチング素子を形成する工程と、前記スイッチング素子を形成する工程の前または後に、絶縁体中に少なくとも金属微粒子または半金属微粒子より選ばれた1種または2種以上の元素の微粒子が分散して成る遮光膜を堆積する工程と、前記遮光膜をパターニングする工程と、前記第1の基板と対向基板とをシール材を介して貼り合わせる工程と、前記貼り合わされた第1の基板と対向基板との間隙に液晶を注入し封止する工程とを含む液晶表示装置の製造方法において、前記遮光膜をパターニングする工程は前記遮光膜中の少なくとも金属微粒子または半金属微粒子より選ばれた1種または2種以上の元素の微粒子を所定領域で選択的に除去する工程を含み、この工程はpH3〜pH5の溶液により行われることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

IPC (3件)：

G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 500

FI (3件)：

G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 500