特許
J-GLOBAL ID：200903080536262317

保護層転写シート

発明者：
八木 公宏

八木 公宏 について

, 
青木 正裕

青木 正裕 について

, 
辻田 由紀子

辻田 由紀子 について


出願人/特許権者：
フジコピアン株式会社

フジコピアン株式会社 について


代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-027994
公開番号（公開出願番号）：特開2001-162932
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】 受像体上に熱転写法により形成された画像表面に良好な保護性能を付与するための熱転写シートを提供する。【解決手段】 受像体上に熱転写法により形成された画像上に保護層を転写するための熱転写シートであって、基材上に、無機層状化合物を含有する熱転写性の保護層を有することを特徴とする熱転写シート。
請求項（抜粋）：
受像体上に熱転写法により形成された画像上に保護層を転写するための熱転写シートであって、基材上に、無機層状化合物を含有する熱転写性の保護層を有することを特徴とする熱転写シート。
Fターム (8件)：
2H111AA10 ,  2H111AA26 ,  2H111AA27 ,  2H111AA52 ,  2H111BA35 ,  2H111BA53 ,  2H111BA54 ,  2H111BA78
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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