特許
J-GLOBAL ID：200903080536874983
ディスプレイの製造方法とその製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上田 章三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-100042
公開番号（公開出願番号）：特開平8-271826
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【目的】 回折格子パターンを有する高品質のディスプレイを効率的に製造できるディスプレイの製造方法とその製造装置を提供すること。【構成】 この製造装置は、光源1と、複数種類の分割格子パターン(回折格子パターンが分割されたもの)に対応した複数種類の拡大パターン2aが1枚のマスク上に並設されたフォトマスク2を保持するマスク保持手段と、これ等の間に配置され開口窓3aを有するアパーチャー3と、この下方側に配置され縮小率1/10の縮小光学レンズ系4と、この下方側に配置され感光性材料が塗布されたガラス乾板5を保持するXYステージ6等でその主要部が構成されている。そして予め準備された複数の拡大パターン2aを適宜選択し、これ等フォトマスクを介して感光性材料に対し順次縮小露光して分割格子パターンの集合体で構成される回折格子パターンを形成できるため、従来のコンピュータデータを用いた電子線描画装置による製造方法に較べてその簡便化が図れる。
請求項（抜粋）：
基板とこの基板表面に形成された回折格子パターンとを備え、この回折格子パターンが複数の微小な画素に分割され、かつ、各画素の回折格子の空間周波数、各画素の回折格子の方向を少なくともその構成要素とする各画素の分割格子パターンが、目的とするディスプレイパターンに対応し特定されているディスプレイの製造方法において、上記ディスプレイパターンに対応して特定された回折格子パターンの拡大パターンを有するフォトマスクを作成し、かつ、基板上に設けられた感光性材料に対し上記フォトマスクを介して縮小露光を行い、上記回折格子パターンを基板表面に形成することを特徴とするディスプレイの製造方法。
IPC (5件)：
G02B 27/00
, G02B 5/18
, G03F 1/00
, G03F 9/00
, G09F 7/16
G02B 27/00 D
, G02B 5/18
, G03F 1/00 Z
, G03F 9/00 Z
, G09F 7/16 N
