特許
J-GLOBAL ID：200903080541654169
ウェーハパターン装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-298404
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151564
出願日： 1992年11月09日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】ウェーハが試料台に置かれたときの水平方向、および回転方向の誤差補正の精度を向上させること。【構成】ウェーハ上に形成されたパターンの寸法測定を行う検査装置において、ウェーハと試料台との誤差補正の精度を向上させるには、図2に示すように3ヵ所の離れた位置にアライメントパターンを設け、従来2回だったアライメント操作を3回に増やした。【効果】アライメントパターンを3ヵ所設置したことにより、アライメントパターン間の距離が短縮され、次のアライメントパターンへ移動したときのずれが小さくなるため、アライメントパターンの検出が容易になり、また、誤差補正の精度も向上する。
請求項（抜粋）：
ウェーハ上に形成されたパターンの検査を行う光学式あるいは電子線式装置であって、ウェーハ移動台の機械的座標と、これに搭載されたウェーハ上のパターンの座標とを、ウェーハ上の特定の位置に形成された複数位置画像を利用して関連付け、目的の検査パターンへの移動を、ウェーハ上のパターンの座標値に基づいて行う方式の装置において、ウェーハ上のパターンの像を表示画面に表示する手段と、その表示画面に表示された前記像中の任意の位置を指示する手段と、前記表示画面上の予め定められた位置と前記指示された位置との差を水平面において検出する手段と、ウェーハを乗せているステージの傾斜角度を検出する手段と、XあるいはY移動機構のうち少なくとも一方が傾斜機構の上に搭載され、かつその移動方向が傾斜方向に沿って移動するステージを有する装置であって、ウェーハアライメントに第1のアライメントパターンを用いて基準点の座標を決め、第1アライメントパターン近傍にある第2のアライメントパターンを用いて、ステージ移動に対する、ウェーハ上のパターンの水平方向に対する傾きを検出し、該傾きに基づき、第3アライメントパターン位置に移動台を移動させたことを特徴にしたウェーハパターン装置。
IPC (6件)：
H01L 21/68
, G01B 15/00
, H01J 37/22
, H01J 37/28
, H01L 21/027
, H01L 21/66
