特許
J-GLOBAL ID:200903080543120293

光記録方法、光記録再生方法、光記録材料及び光記録装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 薄田 利幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-041807
公開番号(公開出願番号):特開平5-073990
出願日: 1991年03月07日
公開日(公表日): 1993年03月26日
要約:
【要約】【目的】超高密度記録に有用な光記録方法、記録・再生方法、それに適切な光記録部材等を提供すること。【構成】垂直磁気異方性エネルギーを有する磁性材料にレーザー光を照射し、磁性材料の照射部の垂直磁気異方性エネルギーの変化を生じさせて情報を記録する。再生はカー効果等の磁気特性の変化を検出する。光記録部材としては、鉄族元素と貴金属元素との交互積層多層膜等がある。
請求項(抜粋):
垂直磁気異方性エネルギーを有する磁性材料にレーザー光を照射し、該磁性材料の照射部に磁気特性の変化を生じさせて情報を記録することを特徴とする光記録方法。
IPC (3件):
G11B 11/14 ,  G11B 5/02 ,  G11B 11/10
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭54-033041
  • 特開昭56-061031
  • 特開昭61-260414
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