画像処理方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤幸男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-147117
公開番号（公開出願番号）：特開平10-320561
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【解決手段】基準画素5の近傍に第1基準ウィンドウ7aおよび第2基準ウィンドウ7bを設定し、基準画素5が対応点を探索する対応ライン4内の各対応画素6の近傍にそれぞれ第1対応ウィンドウ8aおよび第2対応ウィンドウ8bを設定し、第1基準ウィンドウ7aおよび第1対応ウィンドウ8a間、並びに、第2基準ウィンドウ7bおよび第2対応ウィンドウ8b間のMDL基準値を算出し、算出されたMDL基準値を比較して最適なウィンドウサイズを選択する。そして、最適なウィンドウサイズが選択された対応ライン4内の対応画素6のMDL基準値を比較して基準画素5に類似する対応画素6を探索する。【効果】ステレオ画像対の高精度な対応点を得て、再現性の良好な3次元情報を得ることができる。

請求項（抜粋）：

一対のステレオ画像のうち、一方の画像を基準画像と呼び、もう一方の画像を対応画像と呼ぶとき、基準画像内の画素の近傍に所定の領域を設定する基準領域設定工程と、対応領域内の複数の画素の近傍にそれぞれ前記基準領域設定工程により設定された領域と同サイズの領域を設定する対応領域設定工程と、前記基準領域設定工程により設定された領域を基準領域と呼び、前記対応領域設定工程により設定された領域を対応領域と呼ぶとき、前記基準領域設定工程により設定された基準領域と前記対応領域設定工程により設定された複数の対応領域とをそれぞれ比較し、基準画像内の画素に類似する対応画像内の類似画素を探索する類似画素探索工程とを含む画像処理方法であって、前記類似画素探索工程は、前記基準領域と前記複数の対応領域との間のそれぞれのMDL(Minimum Description Length)基準値を算出するMDL基準値算出工程を有し、前記MDL算出工程により算出されたそれぞれのMDL基準値を比較して基準画像内の画素に類似する対応画像内の類似画素を探索することを特徴とする画像処理方法。

IPC (3件)：

G06T 7/00 , G01C 3/06 , G01C 11/30

FI (3件)：

G06F 15/62 415 , G01C 3/06 V , G01C 11/30

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