特許

J-GLOBAL ID：200903080560575423

基板洗浄装置

発明者： 広瀬 治道 ,  佐藤 均 ,  木村 長市
出願人/特許権者： 株式会社芝浦製作所
代理人 (1件)： 木内 光春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-233790
公開番号（公開出願番号）：特開平6-208098
出願日： 1989年09月30日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：

【要約】【目的】 簡単な構成で基板の上下両面を高い洗浄度で洗浄することができる基板洗浄装置を提供することである。【構成】 液槽2内に、洗浄液3中の水面3a近傍に基板1の搬送手段(搬送ローラ)4と、下方に中空で空気14が供給される洗浄ユニット12を配置する。洗浄液3の上方に、基板の上面1aに高圧水を噴射するためのジェットノズル5を、洗浄ユニット12内にジェットノズル10とを、搬送方向と直交してそれぞれ複数配置する。洗浄ユニット12にはジェットノズル10上部に接してエアノズル11を配置する。これにより、ジェットノズル5からの高圧水が水面3aの空気を巻込んでキャビテーション7を発生すると共に、ジェットノズル10からの高圧水がエアノズル11付近の空気14を巻込んでキャビテーション7を発生し、基板の上面1a及び下面1bが同時に高い洗浄度で洗浄される。

請求項（抜粋）：

洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧水を噴射して洗浄する基板洗浄装置において、前記基板上面が洗浄液に浸されるよう洗浄液の水面付近に設置される基板の搬送手段と、前記基板上面に高圧水を噴射するよう該搬送手段の搬送方向に直交して複数配設される第1の高圧水ノズルと、前記基板下面に高圧水を噴射するよう該搬送手段の搬送方向に直交して洗浄液槽内に複数配設される第2の高圧水ノズルと、前記基板下面に対して空気を供給するよう洗浄液槽内に配設される空気供給手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/02 ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭49-003160
  
• 特開昭61-182229
  
• 特開昭61-178081