水素生成装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-176570
公開番号（公開出願番号）：特開2002-362902
出願日： 2001年06月12日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】【課題】原料中に含まれる含硫黄成分に強い水素生成装置を提供することを目的とする。【解決手段】少なくとも炭素および水素原子で構成される原料を供給する原料供給部4と、原料中の含硫黄成分を除去する脱硫部5と、水の水供給部7と、少なくとも酸素を含むガスの酸化ガス供給部と、脱硫部後の原料と水を反応させる改質触媒を設けた水素ガスを生成する改質部と、原料および水および酸化ガスの供給量を制御する供給量制御部8と、改質部で生成させた水素ガス中の一酸化炭素を低減する一酸化炭素除去部を設け、改質触媒を白金および金属酸化物からなる担体で構成する。

請求項（抜粋）：

少なくとも炭素および水素原子で構成される原料を供給する原料供給部と、前記原料中の含硫黄成分を除去する脱硫部と、水の水供給部と、少なくとも酸素を含むガスの酸化ガス供給部と、前記脱硫部後の原料と前記水を反応させる改質触媒を設けた水素ガスを生成する改質部と、前記原料および水および酸化ガスの供給量を制御する供給量制御部と、前記改質部で生成させた水素ガス中の一酸化炭素を低減する一酸化炭素除去部を具備する装置において、前記改質触媒を白金および金属酸化物からなる担体で構成するとともに、原料中の含硫黄成分量をもとに前記酸化ガス供給部より前記改質触媒に供給する酸化ガス量を規定することを特徴とする水素生成装置。

IPC (3件)：

C01B 3/32 , C01B 3/40 , C01B 3/48

FI (3件)：

C01B 3/32 A , C01B 3/40 , C01B 3/48

Fターム (9件)：

4G040EA02 , 4G040EA03 , 4G040EA06 , 4G040EB01 , 4G040EB31 , 4G040EB32 , 4G040EB42 , 4G040EB43 , 4G040EC03

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平1-122902
特開昭62-246802
特開昭58-161901

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