特許

J-GLOBAL ID：200903080574019205

耐プラズマ性セラミックス溶射膜

発明者： 渡邉 敬祐 ,  森田 敬司 ,  村田 征隆 ,  久保 尊裕 ,  本間 健弘
出願人/特許権者： コバレントマテリアル株式会社
代理人 (2件)： 木下 茂 ,  石村 理恵
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237398
公開番号（公開出願番号）：特開2009-068067
出願日： 2007年09月13日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】半導体・液晶製造用等のプラズマ処理装置部材に用いられるイットリアセラミックス系溶射膜であって、ハロゲンプラズマプロセスにおいて、該セラミックスの構成原料に起因する不純物金属汚染を抑制することができる耐プラズマ性セラミックス溶射膜を提供する。【解決手段】ジルコニアが0.5mol%以上18mol%以下と、アルミナ、マグネシア、シリカ、カルシアおよびチタニアのうちの少なくともいずれか1種が3mol%以上30mol%以下分散され、かつ、これらの分散された添加物の総量が、3.5mol%以上30mol%以下であるセラミックス溶射膜を形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ジルコニアが0.5mol%以上18mol%以下と、アルミナ、マグネシア、シリカ、カルシアおよびチタニアのうちの少なくともいずれか1種が3mol%以上30mol%以下分散され、かつ、これらの分散された添加物の総量が、3.5mol%以上30mol%以下であることを特徴とする耐プラズマ性セラミックス溶射膜。

IPC (1件)：

C23C 4/10

FI (1件)：

C23C4/10

Fターム (12件)：

4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031AB09 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA04 ,  5F004AA15 ,  5F004BB30 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045EB03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 耐食性セラミックス材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-178167   出願人：株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社
• 溶射粉及び溶射被膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-064249   出願人：信越化学工業株式会社