特許
J-GLOBAL ID：200903080576728840
レジストパタ-ンの形成方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-122607
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316130
出願日： 1995年05月22日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】 露光されてから熱処理されるまでの時間を管理することにより、いわゆる化学増幅系レジストに適したレジストパタ-ンの形成方法を提供すること。【構成】 まず、ウェ-ハが露光処理工程に送られてから、所定の露光処理が施され、露光後熱処理工程にむけて送り出されるまでの露光処理時間Cを、ロットの1枚目のウェ-ハについて求める(S2)。その後、求めた露光処理時間Cを、露光後熱処理工程におけるウェ-ハ1枚あたりに必要な熱処理時間Dと比較し(S3)、露光処理時間Cが熱処理時間Dより短い場合に、熱処理時間Dと露光処理時間Cとの差より少なくとも長い遅延時間αを設定する(S4)。2枚目以降の各ウェ-ハについては、ウェ-ハが露光処理工程に送られる所定の搬送時間bに、設定した遅延時間αを加算し(S5)、その後、露光を行う。
請求項（抜粋）：
各ウェ-ハ上にレジストを成膜した後、露光処理,露光後熱処理,現像処理の各種処理工程を、ウェ-ハを搬送しながら行うレジストパタ-ンの形成方法において、ウェ-ハが前記露光処理工程に送られてから、所定の露光処理が施され、前記露光後熱処理工程にむけて送り出されるまでの露光処理時間を、計測により求める工程と、求めた前記露光処理時間を、前記露光後熱処理工程におけるウェ-ハ1枚あたりに必要な熱処理時間と比較する工程と、前記露光処理時間と前記熱処理時間とを比較した結果、露光処理時間が熱処理時間より短い場合に、熱処理時間と露光処理時間との差より少なくとも長い待機時間を設定する工程と、前記露光処理時間を求めたウェ-ハより後に露光処理される各ウェ-ハについて、前記露光処理工程へのウェ-ハの搬入を前記待機時間だけ遅らせる工程とを少なくとも含むレジストパタ-ンの形成方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, C23F 1/00 102
, G03F 7/20 521
, G03F 7/26 501
H01L 21/30 568
, B05C 11/08
, C23F 1/00 102
, G03F 7/20 521
, G03F 7/26 501
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 566
, H01L 21/30 569 D
