特許

J-GLOBAL ID：200903080578181988

放射源から対象物に放出される放射出力を制御するための方法及び装置

発明者： レイモン アルフレド カルヴァーロ シオチ
出願人/特許権者： シーメンス メディカル システムズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-173765
公開番号（公開出願番号）：特開平10-071214
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【目的】 放射線処置(ないし治療)-処理の効果的な、そして正確な放出のための、方法及びそれに対応する装置を提供する。さらに放射線処置(ないし治療)-処理時間を最少とし、そして放射リークを減少させる装置をも提供する。【構成】 照射されるべき対象物上の照射野が入力され、そして次にセクション(220-230)に分割される。1つのセクション(220)を覆う開口を提供するために、プレートまたはコリメータが放射源と対象物(13)との間に設けられる。放射ビーム(1)が発生され、そして放射によって1つのセクション(220)を処理するのに用いられる。これはセクションの各々(220-230)が放射によって処置-処理されるまで繰り返される。

請求項（抜粋）：

放射源から対象物に放出される放射出力を制御するための方法において、照射のための対象物上に照射野を規定する段階と、照射野を多重セクション、多重セクションの各々は所定のパラメータを有する、に分割する段階と、放射によってセクションの各々を個別に処理する段階、この処理段階は、放射源と対象物との間の開口、この開口はセクションの1つを覆うように設けられ、開口はセクションの1つの所定のパラメータに放射ビームを制限することができる、を規定する段階と、そして放射源から対象物への実質的にロスのないビームパスを持つ放射ビーム、この放射ビームはセクションの1つを照射する、を発生する段階と、を含み、ここにおいてセクションの各々が照射されるまで処理が繰り返される、ことを特徴とする、放射源から対象物に放出される放射出力を制御するための方法。