特許
J-GLOBAL ID：200903080581549368
水性アクリロニトリルプロセス流の操作および/または処理によるオキシダントの低減
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338156
公開番号（公開出願番号）：特開平11-322696
出願日： 1998年11月27日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 水性(メタ)アクリロニトリルプロセス流の操作および/または処理によるオキシダントの低減方法を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリロニトリルの製造方法であって触媒の存在下に反応器帯でプロピレン又はイソブチレン、アンモニアおよび酸素を反応させ不飽和モノニトリル含有反応器流出液を生成する工程;反応器流出液をクエンチカラムに移動させ、少なくとも第一水性流と接触・冷却させる工程;該冷却反応器流出液を吸収カラムに移動させ少なくとも第二水性流と接触させ、底部流として不飽和モノニトリルを吸収カラムから分離・除去する工程;底部流を不飽和モノニトリルの回収精製部に移動させる工程;1個以上の水性プロセス流を再循環し効率改善工程を包含し、改良点が1個以上の水性流をプロセス流への再循環前に処理しpHを低下させて水性再生流中の痕跡不純物量の低減する工程を包含する方法。
請求項（抜粋）：
アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルからなる群から選択される不飽和モノニトリルを製造する方法であって:触媒の存在下にて、反応器ゾーンで、プロピレンおよびイソブチレンからなる群から選択されるオレフィン、アンモニアおよび酸素を反応させて、対応する不飽和モノニトリルを含有する反応器流出液(reactor effluent)を生成する工程と;該不飽和モノニトリルを含有する該反応器流出液を、クエンチカラムに移動させる工程であって、ここで、該不飽和モノニトリルを含有する該反応器流出液は、少なくとも、第一の水性流と接触されて、該反応器流出液が冷却される、工程と;該不飽和モノニトリルを含有する該冷却反応器流出液を、吸収カラムに移動させる工程であって、ここで、該不飽和モノニトリルを含有する該反応器流出液は、少なくとも、第二の水性流と接触されて、底部流(bottom stream)としての該不飽和モノニトリルが、該吸収カラムから分離され、そして除去される、工程と;該不飽和モノニトリルを含有する該底部流を、該不飽和モノニトリルを回収し精製する回収精製部(recovery and purificationsection)に移動させる、工程と;少なくとも1つの水性プロセス流を再循環(recycle)させて、該方法の効率を改善する工程と、を包含し、ここで、改良点が、少なくとも1個の水性流を、該プロセス流に再循環する前に処理して、そのpHを低下させ、それにより、該水性再生流中に存在する痕跡不純物の量を低減する工程を包含する、方法。
IPC (3件)：
C07C253/26
, C07C253/34
, C07C255/08
C07C253/26
, C07C253/34
, C07C255/08
