特許

J-GLOBAL ID：200903080590841454

メイラード反応阻害剤

発明者： 安村 貢一 ,  宮嶋 啓介 ,  長濱 貴男 ,  石川 伸太郎 ,  遠山 祐子 ,  杉山 和久
出願人/特許権者： 大塚製薬株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-027097
公開番号（公開出願番号）：特開平6-305964
出願日： 1994年02月25日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、メイラード反応阻害剤を提供することを目的とする。【構成】 本発明のメイラード反応阻害剤は、一般式【化1】〔式中、R1 は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカノイル基を示し、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカノイル基を示し、R3 は水素原子、低級アルカノイル基、ベンゾイル基又は基【化2】(R4 はフェニル基又は低級アルコキシ基を示す)を示す。またR2 及びR3 は一緒になって低級アルキリデン基、ジフェニルメチレン基又はフェニル低級アルキリデン基を示してもよい。Xは-S-又は-N(R5 )-を示す。R5 は水素原子又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。更にR2 、R3 及びR5 は結合して6〜8員環を形成してもよい。〕で示される化合物及びその塩から選ばれる化合物の少なくとも一つを有効成分として含有するものである。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】〔式中、R0 は水素原子又は低級アルキル基又を示し、R1 は水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル基又は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示し、R2 は水素原子、低級アルキル基又は低級アルカノイル基を示し、R3 は水素原子、低級アルカノイル基、ベンゾイル基又は基【化2】(R4 はフェニル基又は低級アルコキシ基を示す)を示す。またR2 及びR3 は一緒になって低級アルキリデン基、ジフェニルメチレン基又はフェニル低級アルキリデン基を示してもよい。Xは-S-又は-N(R5 )-を示す。R5 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又はフェニル環上に置換基としてハロゲン原子を有することのあるフェニル低級アルキル基を示す。更にR3 及びR5 は結合して6〜8員環を形成してもよい。〕で示される化合物及びその塩から選ばれる化合物の少なくとも一つを有効成分として含有するメイラード反応阻害剤。

IPC (7件)：

A61K 31/415 ADP ,  A61K 31/415 AGZ ,  A61K 31/425 AED ,  A61K 31/53 ,  C07D235/30 ,  C07D277/82 ,  C07D487/04 144