特許
J-GLOBAL ID：200903080604598396
位置合わせ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-202976
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037805
出願日： 1993年07月23日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】マスク20上の基準に対して所定の関係で配置されたパターンの第1の像を投影光学系17を介して感光基板11上に投影し、マスク20上の基準に対して所定の関係で配置されたパターンの第2の像を第1の像に重ね合わせて、若しくは第1の像と第2の像とをつなぎ合わせて投影するために、感光基板11をマスク20に対して位置合わせする位置合わせ方法において、一段と精度良く投影像の位置合わせを行う。【構成】露光基板11上に形成された2つのマークのずれ量とマスクパターンを感光基板11に投影した際の感光基板11上におけるマスク20の中心の位置と、マスクパターンのマスク20上での位置とに基づいて、感光基板11の位置を補正するための誤差パラメータを求めるようにしたことにより、感光基板11上におけるマスクパターンの露光位置合わせを感光基板11に投影した際の感光基板11上におけるマスクパターンの回転量及び倍率を考慮して一段と高精度で行うことができる。
請求項（抜粋）：
マスク上の基準に対して所定の関係で配置されたパターンの第1の像を投影光学系を介して感光基板上に投影し、上記マスク上の基準に対して所定の関係で配置されたパターンの第2の像を上記第1の像に重ね合わせて、若しくは上記第1の像と第2の像とをつなぎ合わせて投影するために、上記感光基板を上記マスクに対して位置合わせする位置合わせ方法において、予め、上記感光基板上に上記第1の像と上記第2の像とを重ね合わせて、若しくはつなぎ合わせて形成する工程と、上記感光基板上の上記第1の像と上記第2の像との位置ずれ量を上記感光基板上の複数ヶ所について実測する工程と、上記基準を上記投影光学系を介して上記感光基板上に投影した場合の上記基準の位置と、上記マスク上の上記パターンの位置とに基づいて、上記実測した複数の位置ずれ量が最小となるように誤差パラメータを決定する工程と、上記決定された誤差パラメータに基づいて上記感光基板を位置決めする工程とを含むことを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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