特許

J-GLOBAL ID：200903080611767349

薬液処理装置および薬液処理方法

発明者： 大森 寿朗
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-325561
公開番号（公開出願番号）：特開平9-167752
出願日： 1995年12月14日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：

【要約】【課題】 薬液処理装置による半導体基板の薬液処理の際、薬液中の不純物濃度が増加して半導体基板を汚染する。【解決手段】 薬液処理装置の薬液2の循環系に、電気吸着により薬液2中の不純物を捕獲する不純物除去装置9a,9bを備え、しかも吸着した不純物を再生液中に脱離させる、不純物除去装置9a,9bの再生機構を設ける。

請求項（抜粋）：

薬液を循環させる機構と、上記薬液の循環系に配設され、導電性材料から成る吸着板に電位を与えて不純物を吸着することによって、上記薬液中の不純物を除去する不純物除去装置と、上記不純物除去装置を上記薬液の循環系から切り離し、上記吸着板に吸着した不純物を脱離させて上記不純物除去装置を再生する機構と、を備えたことを特徴とする薬液処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B01D 15/00 ,  B03C 5/00 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 T ,  B01D 15/00 P ,  B03C 5/00 A ,  H01L 21/306 J