特許
J-GLOBAL ID:200903080626566331

静電チャックおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 宏志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-018032
公開番号(公開出願番号):特開2000-216232
出願日: 1999年01月27日
公開日(公表日): 2000年08月04日
要約:
【要約】【課題】 静電吸着力の均一性に優れる窒化アルミニウム製の静電チャックおよびその製造方法を提供すること。【解決手段】 電極層3が形成された窒化アルミニウム焼結体からなる第1の基板2と、その第1の基板2の電極層形成面に接合された窒化アルミニウム焼結体からなる第2の基板4と、これら第1の基板および第2の基板の間の全面に介装され、イットリウムアルミネートを含む接合層5とにより静電チャックが構成される。この際に、第1の基板2と第2の基板4との間に、酸化アルミニウム、酸化イットリウムおよびイットリウムアルミネートのうち少なくとも2種、またはイットリウムアルミネートからなる接合材料を0.1g/cm2以上介装させ、第1および第2の基板2,4を15g/cm2以上で加圧しながら熱処理を行って接合材料を溶融させる。
請求項(抜粋):
電極層が形成された窒化アルミニウム焼結体からなる第1の基板と、その第1の基板の電極層形成面に接合された窒化アルミニウム焼結体からなる第2の基板と、これら第1の基板および第2の基板の間の全面に介装され、イットリウムアルミネートを含む接合層とを具備することを特徴とする静電チャック。
IPC (4件):
H01L 21/68 ,  C04B 37/00 ,  H02N 13/00 ,  B23Q 3/15
FI (4件):
H01L 21/68 R ,  C04B 37/00 A ,  H02N 13/00 D ,  B23Q 3/15 D

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