レーザ光の走査光学系及びレーザ加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梅田明彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-092256
公開番号（公開出願番号）：特開平11-267873
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【解決手段】レーザ光を出力するためのレーザ光源10と、2軸制御可能なピエゾ式ガルバノミラー13からなるガルバノメータ型走査光学系とを備えたレーザ加工装置。この走査光学系において、S偏光のレーザ光18は偏光ビームスプリッタ11で反射され、λ/4板12を通過して円偏光となり、ガルバノミラーに略垂直に入射する。次に、ガルバノミラーからの反射光は逆回りの円偏光となり、再びλ/4板を通過してP偏光になり、偏光ビームスプリッタを通過して、集光レンズ14により集光されて被加工物表面に照射される。制御装置17によりガルバノミラーの反射方向を制御して、レーザ光を被加工物表面上に2次元的に走査する。照射されるレーザ光のパワーは、λ/4板を回転させることにより偏光ビームスプリッタの透過率を変えて調整する。【効果】レーザ光を高速かつ高精度に走査でき、微細加工が可能になる。

請求項（抜粋）：

レーザ発振器から出力されたレーザ光を反射するための2軸制御可能なガルバノミラーと、前記ガルバノミラーからの反射光を集光させるための集光レンズと、前記ガルバノミラーの反射方向を制御するための制御装置とからなることを特徴とするレーザ光の走査光学系。

IPC (2件)：

B23K 26/08 , G02B 26/10 101

FI (2件)：

B23K 26/08 B , G02B 26/10 101

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