特許
J-GLOBAL ID：200903080645267299
マスク構造体およびマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132282
公開番号（公開出願番号）：特開2003-320043
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月11日
要約：
【要約】【課題】 着用時のマスク圧接跡を低減し、眼鏡をかけている場合であっても顔面に着脱するのが容易なマスクを提供する。【解決手段】 鼻と口を覆う立体形状を有するマスク構造体1であって、顔面に接する外枠2と、外枠2から突出して立体形状を付与する1以上のU字型リブ3と、外枠2を横断して、鼻の下に位置する横断部4とを含んでなるマスク構造体1およびこれを用いたマスクを提供する。
請求項（抜粋）：
鼻と口とを覆う立体形状を有するマスク構造体であって、顔面に接する外枠と、該外枠から突出して立体形状を付与する1以上のU字型リブと、該外枠を横断して、鼻の下に位置する横断部とを含んでなるマスク構造体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
A62B 18/02 C
, A62B 18/08 D
2E185AA07
, 2E185AA10
, 2E185BA04
, 2E185BA08
, 2E185CA03
, 2E185CB07
, 2E185CB15
