特許
J-GLOBAL ID:200903080652301192
半田付性に優れるNiめっきアルミ基複合材および前記Niめっきアルミ基複合材の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-264674
公開番号(公開出願番号):特開2000-096288
出願日: 1998年09月18日
公開日(公表日): 2000年04月04日
要約:
【要約】【課題】 ノンフラックス半田付法によっても半田付けが良好に行えるNiめっきアルミ基複合材を提供する。【解決手段】 アルミ基複合材表面に形成されたNiめっき層のオージェ電子分光法により測定される酸素濃度のピーク値が10at%以下である。【効果】 表面のNiめっき層の酸素濃度のピーク値が10at%以下と低いので半田濡れ性などが良好で半田付性に優れる。また前記Niめっき層の酸素濃度のピーク値は、Niめっき層の酸化皮膜を還元するか、酸性液により溶解するか、研磨することにより10at%以下にできる。
請求項(抜粋):
アルミ基複合材表面に形成されたNiめっき層のオージェ電子分光法により測定される酸素濃度のピーク値が10at%以下であることを特徴とするNiめっきアルミ基複合材。
IPC (3件):
C25D 5/48
, B23K 1/20
, C22F 1/04
FI (3件):
C25D 5/48
, B23K 1/20 A
, C22F 1/04
Fターム (13件):
4K024AA03
, 4K024AA14
, 4K024AB01
, 4K024BA06
, 4K024BB09
, 4K024DA03
, 4K024DA04
, 4K024DA06
, 4K024DA08
, 4K024DB01
, 4K024DB07
, 4K024DB10
, 4K024GA14
前のページに戻る