特許
J-GLOBAL ID：200903080653867637
CVD成膜装置及びCVD成膜方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
柳瀬 睦肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-152871
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335946
出願日： 2000年05月24日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 内部電極に付着した薄膜が容器内に剥がれ落ちるのを防止し、且つ、装置の稼働率の低下を抑制できるCVD成膜装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るCVD成膜装置は、ペットボトル7の外側を囲むように配置された外部電極3と、この外部電極3内に配置され、ペットボトル7の内部に配置される内部電極9と、ペットボトルの内部に原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、外部電極3の内部にクリーニング用のガスを導入するガス導入手段と、外部電極3に接続されたマッチングボックス14と、このマッチングボックスに接続された高周波電源15と、を具備する。ガス導入手段によりガスが外部電極内に導入され、高周波電源によりマッチングボックスを介して外部電極に高周波出力が供給され、内部電極と外部電極の間にプラズマを発生させることにより、内部電極に付着した薄膜を分解して除去する。
請求項（抜粋）：
容器の内側に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、容器の外側を囲むように配置された外部電極と、この外部電極内に配置され、容器の内部に配置される内部電極と、容器の内部に原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、上記外部電極の内部にクリーニング用のガスを導入するガス導入手段と、外部電極に接続されたマッチングボックスと、このマッチングボックスに接続された高周波電源と、を具備することを特徴とするCVD成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/509
, B65D 23/02 Z
3E062AA09
, 3E062AC02
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JB24
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030CA15
, 4K030DA06
, 4K030EA06
, 4K030FA03
