特許
J-GLOBAL ID：200903080656864442
エキシマレーザ制御装置及び加工装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-353125
公開番号（公開出願番号）：特開平5-167162
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 パルスエネルギーのスパイク状パターンを消去し、従来よりはるかに少ないパルス数で、露光量のバラツキを極限まで小さくすることが可能な露光光源用エキシマレーザ制御装置を得る。【構成】 エキシマレーザ制御装置において、バーストモード運転の発振状態における各パルスのレーザ光エネルギーを一定にするよう、予めパルス発振を行なうことによって求めて記憶されている放電電圧とエネルギー量との関係に基いて放電電圧を制御する制御手段を備えた。
請求項（抜粋）：
一定の周波数で連続的なパルス発振を所定時間維持する発振状態と、前記パルス発振を所定時間停止する停止状態とを交互に繰り返すバーストモード発振が可能なエキシマレーザ装置に対して、放電電圧を調整することによって前記エキシマレーザ装置から発振されるパルスのエネルギー量を調整するエキシマレーザ制御装置において、前記発振状態開始からの各パルスにおける前記放電電圧と前記エネルギー量との関係を求めて記憶する記憶手段と、前記発振状態中の各パルスのエネルギー量をほぼ一定にするよう、前記関係に基いて前記パルス毎に前記放電電圧を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするエキシマレーザ制御装置。
IPC (3件)：
H01S 3/104
, H01S 3/00
, B23K 26/00
