特許

J-GLOBAL ID：200903080658974873

単分散微粒子

発明者： 今野 幹男 ,  顧 順超 ,  脇屋 武司
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-053805
公開番号（公開出願番号）：特開2003-252912
出願日： 2002年02月28日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：

【要約】【課題】 ソープフリー重合により得られる粒子径が1μm以上且つ粒子径の揃った単分散性粒子を提供する。【解決手段】 ソープフリー重合により得られる単分散微粒子であって、重合性単量体と溶媒との混合液に、カチオン性官能基を有するラジカル開始剤とアニオン性官能基を有するラジカル開始剤とを添加し、重合することにより得られうる粒径が1μm以上且つ粒径分布(Cv値)が10%以下である単分散粒子。

請求項（抜粋）：

ソープフリー重合により得られる単分散微粒子であって、重合性単量体と溶媒との混合液に、カチオン性官能基を有するラジカル開始剤とアニオン性官能基を有するラジカル開始剤とを添加し、重合することにより得られうる粒径が1μm以上且つ粒径分布(Cv値)が10%以下であることを特徴とする単分散粒子。

IPC (2件)：

C08F 2/06 ,  C08F 4/00

FI (2件)：

C08F 2/06 ,  C08F 4/00

Fターム (14件)：

4J011AA01 ,  4J011AA08 ,  4J011BB02 ,  4J011BB09 ,  4J011BB15 ,  4J011DA04 ,  4J011HA08 ,  4J011HB14 ,  4J011HB16 ,  4J011HB22 ,  4J015AA01 ,  4J015AA10 ,  4J015BA01 ,  4J015BA14

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 乳化重合方法及びそれにより得られるエマルジョン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-330310   出願人：昭和電工株式会社
• 新規なアゾアミジン化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-037967   出願人：和光純薬工業株式会社