薄膜堆積方法とその装置および薄膜堆積方法に用いるFTIRガス分析計並びに薄膜堆積方法に用いる混合ガス供給装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤本英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051823
公開番号（公開出願番号）：特開2001-234348
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】所望の組成の薄膜を再現性よくかつ効率的に形成することができる薄膜堆積方法とその装置およびこの薄膜堆積方法に用いるFTIRガス分析計並びに混合ガス供給装置を提供すること。【解決手段】複数の有機金属ガスG1 ,G2 ,G3 をガス混合室15において混合し、この混合されたガスを反応室22内に供給し、この反応室22内に設けられている基板24上に薄膜を堆積させるようにした薄膜堆積方法において、前記ガス混合室15内に供給される複数の有機金属ガスG1 ,G2 ,G3 の混合比を、ガス混合室15に設けられているFTIRガス分析計20を用いて測定し、この測定結果に基づいて前記有機金属ガスG1 ,G2 ,G3 の流量を個々に調整するようにした。

請求項（抜粋）：

複数の有機金属ガスをガス混合室において混合し、この混合されたガスを反応室内に供給し、反応室内に設けられている基板上に薄膜を堆積させるようにした薄膜堆積方法において、前記ガス混合室内に供給される複数の有機金属ガスの混合比を、ガス混合室に設けられているFTIRガス分析計を用いて測定し、この測定結果に基づいて前記有機金属ガスの流量を個々に調整するようにしたことを特徴とする薄膜堆積方法。

IPC (4件)：

C23C 16/52 , G01N 21/35 , H01L 21/205 , H01L 21/31

FI (4件)：

C23C 16/52 , G01N 21/35 Z , H01L 21/205 , H01L 21/31 B

Fターム (38件)：

2G059AA01 , 2G059BB01 , 2G059CC03 , 2G059CC12 , 2G059DD16 , 2G059EE01 , 2G059EE10 , 2G059EE12 , 2G059FF11 , 2G059HH01 , 2G059JJ01 , 2G059KK01 , 2G059MM01 , 2G059MM03 , 4K030AA11 , 4K030BA18 , 4K030BA22 , 4K030BA61 , 4K030CA12 , 4K030EA08 , 4K030FA10 , 4K030HA15 , 4K030JA06 , 4K030KA39 , 4K030LA00 , 4K030LA03 , 4K030LA12 , 5F045AA04 , 5F045AB31 , 5F045AC07 , 5F045AC11 , 5F045AF10 , 5F045BB04 , 5F045DC63 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045GB07 , 5F045GB08

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平4-354131

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