特許

J-GLOBAL ID：200903080667547180

ネガ型レジスト組成物

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-280035
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090986
出願日： 2000年09月14日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもPCD、PED安定性に優れたネガ型電子線又はX線レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(A)フェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化,、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化されたポリビニルフェノール、及びフェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(C)酸により架橋する架橋剤、及び(D)特定の構造を分子内に少なくとも1つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)フェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化,、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化されたポリビニルフェノール、及びフェノール性水酸基が部分的に、アルキルエーテル化、アリールエーテル化、アルケニルエーテル化あるいはアラルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(C)酸により架橋する架橋剤、及び(D)下記一般式(X)で示される部分構造を分子内に少なくとも1つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とする電子線用及び/又はX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。【化1】

IPC (6件)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (33件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA00 ,  4J002BC12W ,  4J002CD05X ,  4J002EB006 ,  4J002EJ017 ,  4J002EJ047 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU107 ,  4J002EU187 ,  4J002EU237 ,  4J002EV047 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002FD090 ,  4J002FD14X ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03