特許
J-GLOBAL ID：200903080671667866
蒸着による材料の製造装置、蒸着による材料の製造方法、及び化学蒸着によるシリコンカーバイド構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126371
公開番号（公開出願番号）：特開平7-070753
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：
【要約】【目的】 化学蒸着によるシリコンカーバイドの製造方法および製造装置において、小さな炉床面積で大きな蒸着用表面積を得、化学蒸着材料の容易かつ効率的な取り出しを可能にし、かつ高い反応剤利用効率を得る。【構成】 反応ガスを三角形状の化学蒸着セル12に導いてそこで化学蒸着法によってシリコンカーバイドを蒸着させる。三角形状のセル12によって、炉22の床面積が少ないにもかかわらず、大きな蒸着表面積が与えられる。この三角形状セル12は、蒸着したシリコンカーバイド50の厚さが端の領域48では無視し得る程度となり、該材料50を容易に分離することができて後での機械加工が少なくて済むと言う付加的な利点を有する。
請求項（抜粋）：
制御された流速でガスを供給する手段と、複数の側壁と頂蓋と底蓋とを具えた蒸着炉と、外側面と内側面と第1の端部と第2の端部とを具えた蒸着セルを形成するように前記蒸着炉内に設けられ且つ前記蒸着炉内での使用に適した材料で作られた複数の第1のマンドレルプレートであって、前記蒸着セルの前記内側面は三角形状断面を有する蒸着チャンバを形成している第1マンドレルプレートと、前記蒸着チャンバを加熱する手段と、前記ガスを前記蒸着チャンバの前記第1端部に導いて、前記蒸着チャンバを通って前記第2端部まで到達させ、そこで前記ガスを蒸着チャンバから排出する手段とを具備し、前記ガスは加熱マンドレルプレートの表面に平行に流れ、そして該加熱マンドレルプレート上に蒸着して蒸着構造体を形成する、蒸着による材料の製造装置。
IPC (4件)：
C23C 16/44
, C23C 16/32
, C30B 28/14
, C30B 29/36
