特許
J-GLOBAL ID：200903080672621495
プレート型偏光ビームスプリッタ及びその製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-026008
公開番号（公開出願番号）：特開2002-228834
出願日： 2001年02月01日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：
【要約】【課題】 透明板上に均一肉厚の偏光ビームスプリッタ膜を備えた従来構造のプレート型偏光ビームスプリッタの欠点である入射光の入射角の制限という不具合を解決して、平行光以外の発散光、収束光に対しても適用できる偏光ビームスプリッタを提供する。【解決手段】 透明板2の面上に偏光ビームスプリッタ膜3を成膜した構成のプレート型偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光ビームスプリッタ膜は、入射角及び入射位置が異なる各入射光の入射位置に応じて異なった最適膜厚を有するように、その膜厚が一方向へ漸増するように構成されている。
請求項（抜粋）：
透明板の面上に偏光ビームスプリッタ膜を成膜した構成のプレート型偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光ビームスプリッタ膜は、入射角及び入射位置が異なる各入射光の入射位置に応じて異なった最適膜厚を有するように、その膜厚が一方向へ漸増するように構成されていることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。
Fターム (4件)：
2H049BA05
, 2H049BA43
, 2H049BC09
, 2H049BC21
