特許

J-GLOBAL ID：200903080679134654

ガス分離方法とその装置

発明者： 高塚 透 ,  梶山 隆一郎 ,  岡田 佳巳 ,  廣濱 誠也 ,  柴垣 鉄夫 ,  串田 利夫
出願人/特許権者： 千代田化工建設株式会社 ,  北陸電力株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-246033
公開番号（公開出願番号）：特開平5-237329
出願日： 1992年08月24日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：

【要約】【目的】 大量のガスを処理することができ、かつ連続的に操作ができ、吸着と脱着における圧力差あるいはさらに温度差による吸着量の変動を最大限に利用できるガス分離方法とその装置を提供する。【構成】 2以上の成分からなるガスを、吸着剤粒子が流動循環している系の吸着系に導入して、常圧あるいは加圧下において分離対象の成分を吸着剤粒子に吸着させ、吸着後の吸着剤粒子を脱着系に輸送させ、吸着系よりも圧力が低い、又は圧力が低く、かつ温度が高い脱着系において、吸着剤粒子からそれに吸着されている成分を脱着させることを特徴とするガス分離方法、及び吸着剤粒子がそれぞれ流動上昇する間に吸着あるいは脱着が行われる吸着部と脱着部とが組合され、脱着部の圧力が吸着部の圧力より低く、場合により常圧より減圧下で行われる、吸着系と脱着系とを吸着剤粒子が流動循環する形式のガス分離装置。

請求項（抜粋）：

2以上の成分からなるガスを、吸着剤粒子が流動循環している系の吸着系に導入して、常圧ないし加圧下において分離対象の成分を吸着剤粒子に吸着させ、吸着後の吸着剤粒子を脱着系に輸送させ、吸着系よりも圧力が低い、又は圧力が低くかつ温度が高い脱着系において、吸着剤粒子からそれに吸着されている成分を脱着させることを特徴とするガス分離方法。

IPC (3件)：

B01D 53/12 ,  B01J 20/18 ,  C01B 31/20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-017205
  
• 特開昭52-052890
  
• 特開昭52-072374
  
• 特開昭54-100976