特許

J-GLOBAL ID：200903080682668643

光学基板及びその製造方法並びに表示装置

発明者： 西川 尚男
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-320007
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131520
出願日： 1998年10月23日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】 コントラストを向上させる光学基板を容易に製造する方法を提供することにある。【解決手段】 複数の領域を区画する第1の凸部18が形成された第1の原盤10と、溝27によって区画される複数の第2の凸部28が形成された第2の原盤20と、を光透過性層前駆体32を介して密着させて、第1の凸部18の形状から転写された遮光用凹部38と、第2の凸部28の形状から転写された色用凹部36と、を有する光透過性層30を形成する工程と、光透過性層30から第1の原盤10を剥離する工程と、少なくとも遮光用凹部38の開口部の周囲に、遮光性材料62をはじく上層56を形成し、遮光性材料62を遮光用凹部38に充填して遮光性層60を形成する工程と、光透過性層30から第2の原盤20を剥離する工程と、色用凹部36に色材42を充填して色パターン層40を形成する工程と、を含む。

請求項（抜粋）：

複数の領域を区画する第1の凸部が形成された第1の原盤と、溝によって区画される複数の第2の凸部が形成された第2の原盤と、を光透過性層前駆体を介して密着させて、前記第1の凸部の形状から転写された遮光用凹部と、前記第2の凸部の形状から転写された色用凹部と、を有する光透過性層を形成する工程と、前記光透過性層から前記第1の原盤を剥離する工程と、少なくとも前記遮光用凹部の開口部の周囲に、遮光性材料をはじく上層を形成し、前記遮光性材料を前記遮光用凹部に充填して遮光性層を形成する工程と、前記光透過性層から前記第2の原盤を剥離する工程と、前記色用凹部に色材を充填して色パターン層を形成する工程と、を含む光学基板の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02B 3/00 ,  G02F 1/1335 505

FI (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02B 3/00 A ,  G02F 1/1335 505

Fターム (18件)：

2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB15 ,  2H048BB44 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Y ,  2H091FA29Z ,  2H091FA35Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FC01 ,  2H091FC29 ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  2H091LA17 ,  2H091MA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• カラーフィルタの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-194626   出願人：東レ株式会社
• レンズ板の製作方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-126635   出願人：日本ビクター株式会社