特許
J-GLOBAL ID：200903080686659134
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-053378
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244257
出願日： 1996年03月11日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 大型ガラス基板を起立状態で露光処理する。【解決手段】 露光装置は、基板1、1’、1’’が搬入され露光処理され搬出されるところの露光領域を有する。基板は、搬入手段6によって水平状態で露光領域の第1ステーションNo.1まで搬入される(工程A)。基板は、基板起立手段7によって起立せしめられる(工程C)。起立した基板は、移送装置8に渡され(工程E)、第2ステーションNo.2へ送られる(工程A)。基板は、第2ステーションNo.2で基板保持プレート10に渡され(工程B)、光5の照射により露光処理される(工程C)。露光処理後の基板は、再び移送装置8に渡され(工程D)、第3ステーションNo.3まで送られる。第3ステーションNo.3にて、基板は基板横倒し手段11に渡され、基板横倒し手段11によって水平状態に戻される。その後、基板は搬出手段12によって露光領域外へ搬出される。
請求項（抜粋）：
基板の露光すべき面側にフォトマスクを配置し、フォトマスクを通して基板に光を照射することにより基板を露光するための露光装置であって、基板が搬入され露光処理され搬出されるところの露光領域と、基板を水平状態で前記露光領域まで搬入するための搬入手段と、前記露光領域にて基板を起立させるための基板起立手段と、前記露光領域にて起立状態の基板に対してフォトマスクを通して光を照射するための露光処理手段と、露光処理された基板を起立状態から水平状態へと戻すための基板横倒し手段と、水平状態に戻された基板を前記露光領域から搬出するための搬出手段と、を備える露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 521
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/027
G03F 7/20 521
, G02F 1/1333 500
, H01L 21/30 506 N
