特許
J-GLOBAL ID:200903080692903462

無電解金めっき方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-108965
公開番号(公開出願番号):特開平7-292477
出願日: 1994年04月25日
公開日(公表日): 1995年11月07日
要約:
【要約】【構成】 シアン化金塩、シアン化アルカリ、還元剤及び水酸化アルカリを主成分とするアルカリタイプ無電解金めっき浴中に被めっき物を浸漬して無電解金めっきを行なうことからなる無電解金めっき方法において、上記めっき浴中の遊離シアンイオン濃度を測定し、この測定値が遊離シアンイオン濃度の管理範囲の上限を越えていた場合、ヘキサメチレンテトラミンを添加してめっき浴中の遊離シアンイオン濃度を上記管理範囲内に低下させることを特徴とする無電解金めっき方法を提供する。【効果】 本発明によれば、アルカリタイプの無電解金めっき浴中の遊離シアンイオン濃度を簡単かつ正確にコントロールし得、遊離シアンイオン濃度の増加による析出速度の低下を防止して、析出速度を一定化し得、しかもこのコントロール法はヘキサメチレンテトラミンが取扱い性に優れているため、工業現場レベルにおける浴管理上有利である。
請求項(抜粋):
シアン化金塩、シアン化アルカリ、還元剤及び水酸化アルカリを主成分とするアルカリタイプ無電解金めっき浴中に被めっき物を浸漬して無電解金めっきを行なうことからなる無電解金めっき方法において、上記めっき浴中の遊離シアンイオン濃度を測定し、この測定値が遊離シアンイオン濃度の管理範囲の上限を越えていた場合、ヘキサメチレンテトラミンを添加してめっき浴中の遊離シアンイオン濃度を上記管理範囲内に低下させることを特徴とする無電解金めっき方法。
IPC (2件):
C23C 18/31 ,  C23C 18/44

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