特許

J-GLOBAL ID：200903080699180342

X線投影露光方法及び装置

発明者： 伊東 昌昭 ,  山梨 弘将 ,  松坂 尚
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094615
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301696
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】パターンの転写精度及び生産能率が高く、マスクの長寿命化を実現し得るX線投影露光方法及び装置を提供すること。【構成】X線光源からの放射光線を回折格子によって回折させた後、スリットによって所望波長の露光用X線のみを選択的に取り出し、当該X線を用いてマスクを照明する。光源は、例えばシンクロトロン光源又はレーザプラズマ光源を使用する。回折格子は、そのブレーズ波長を露光用X線の中心波長と等しくすることが望ましい。また、回折格子及びスリットの組み合わせによって得られるフィルタ特性の半値幅は、マスクの反射率波長特性の半値幅の等倍乃至2倍の範囲に設定することが望ましい。

請求項（抜粋）：

転写すべきパターンを描いたマスクをX線で照明し、その反射光線を被露光基板に結像させることにより、マスク上のパターンを被露光基板に転写するX線投影露光方法において、光源からの放射光線を回折格子によって回折させた後、所望波長の露光用X線のみをスリットを用いて選択的に取り出し、当該X線によってマスクを照明することを特徴とするX線投影露光方法。

IPC (3件)：

G21K 1/06 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 E