特許
J-GLOBAL ID：200903080709214046
リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-333828
公開番号（公開出願番号）：特開2004-141152
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】 プローブ・アレイ製造におけるリソグラフィック・マスクの設計および使用のより効率的な手法を見つけ出すこと、具体的には、少量設計の際に、必要なレチクルの数を減らすこと【解決手段】基板上にプローブを合成するシステムおよび方法を用意する。1つまたは複数のシフト・レチクルを利用して、基板の指定の場所に単量体を一様に付加する。シフト・レチクルは、単量体付加の段階と段階の間に、基板に対してシフトされる。さらに、所望のプローブの特性を合成時に指定することができる。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
基板上にプローブを合成する方法において、
基板の指定の場所に単量体を一様に付加するための少なくとも1つのレチクルを用意する段階と、
前記少なくとも1つのレチクルを利用して合成しようとするプローブの特性に関する入力を受け取る段階と、
前記少なくとも1つのレチクルを利用して、基板上に前記所望のプローブを合成する段階と
を含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C12N15/09
, G01N33/53
, G01N37/00
C12N15/00 F
, G01N33/53 M
, G01N37/00 102
4B024AA11
, 4B024CA01
, 4B024CA09
, 4B024HA11
, 4B063QA01
, 4B063QA18
, 4B063QQ42
, 4B063QQ52
, 4B063QR55
, 4B063QR82
, 4B063QS39
