特許

J-GLOBAL ID：200903080710286875

光学活性含フッ素ヒドロキシ化合物の製造方法

発明者： 藤間 俊彦 ,  浅井 智之 ,  熊井 清作
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079046
公開番号（公開出願番号）：特開平9-268146
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】入手容易な原料から、含フッ素ヒドロキシ化合物の光学活性体を高収率で得る方法を提供する。【解決手段】含フッ素ケト化合物CHn F3-n -CO-Rを、光学活性化合物を担持したニッケル触媒の存在下に水素化反応させて、光学活性含フッ素ヒドロキシ化合物CHn F3-n -C* H(OH)-Rを得る。nは0〜2、Rはアルコキシカルボニルアルキル基等、*は光学活性炭素を示す。

請求項（抜粋）：

式1で表される含フッ素ケト化合物を、光学活性化合物を担持したニッケル触媒の存在下に水素化反応させて式2で表される光学活性含フッ素ヒドロキシ化合物とすることを特徴とする光学活性含フッ素ヒドロキシ化合物の製造方法。ただし、式1、式2中、nは、0、1または2を示し、Rは、アルキル基、ハロアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アラルキル基、アリール基、またはハロアリール基を示し、*は光学活性炭素であることを示す。CHn F3-n -CO-R ・・・式1、CHn F3-n -C* H(OH)-R・・・式2。

IPC (7件)：

C07C 31/38 ,  B01J 25/02 ,  C07C 29/145 ,  C07C 67/28 ,  C07C 69/24 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (6件)：

C07C 31/38 ,  B01J 25/02 Z ,  C07C 29/145 ,  C07C 67/28 ,  C07C 69/24 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-124543
  
• 特開昭55-124543
  

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Khimiya Geterotsiklicheskikh Soedinenii, 1989, No.1, p.48-52
• Khimiya Geterotsiklicheskikh Soedinenii, 1989, No.1, p.48-52