特許

J-GLOBAL ID：200903080710643392

ポリフェニルスルホン中空糸膜の製造法

発明者： 中山 智弘
出願人/特許権者： エヌオーケー株式会社
代理人 (1件)： 吉田 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-032571
公開番号（公開出願番号）：特開2001-219043
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】【課題】 高温時の耐薬品性および耐洗浄剤性が高くかつ高い使用圧力に長時間耐え得るポリスルホン系の中空糸膜であって、透過性能にもすぐれているものの製造法を提供する。【解決手段】 ポリフェニルスルホンおよび親水性ポリビニルピロリドンの水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸原液を用い、湿式紡糸法または乾湿式紡糸法によって中空糸膜を製造するに際し、N-メチル-2-ピロリドン水溶液を芯液として用いる。

請求項（抜粋）：

ポリフェニルスルホンおよび親水性ポリビニルピロリドンの水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸原液を用い、湿式紡糸法または乾湿式紡糸法によって中空糸膜を製造するに際し、N-メチル-2-ピロリドン水溶液を芯液として用いることを特徴とするポリフェニルスルホン中空糸膜の製造法。

IPC (3件)：

B01D 71/68 ,  B01D 69/08 ,  D01F 6/76

FI (3件)：

B01D 71/68 ,  B01D 69/08 ,  D01F 6/76 D

Fターム (25件)：

4D006GA06 ,  4D006MA01 ,  4D006MA33 ,  4D006MB02 ,  4D006MB11 ,  4D006MC40 ,  4D006MC62 ,  4D006NA04 ,  4D006NA05 ,  4D006NA10 ,  4D006NA12 ,  4D006NA18 ,  4D006NA75 ,  4D006PB14 ,  4L035AA09 ,  4L035BB03 ,  4L035BB04 ,  4L035BB06 ,  4L035BB12 ,  4L035BB17 ,  4L035BB66 ,  4L035DD03 ,  4L035DD14 ,  4L035FF01 ,  4L035MF01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特表平5-507328
  
• 特表平5-507328
  
• 特開昭62-117812
  
• 特開昭61-271006