特許
J-GLOBAL ID：200903080713973750
高出力ビーム発生器を有する照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-140219
公開番号（公開出願番号）：特開平5-174793
出願日： 1992年06月01日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 電極がビームに対して可及的に僅かしか影にならず、ビーム発生器が理想的に冷却可能である、例えばUVビームまたはVUVビーム用のビーム発生器を有する照射装置を提供する。【構成】 ビーム発生器は冷却剤浴(10)に、前記第1の誘電体(1)と少なくとも前記第1電極とが冷却剤により回りを洗われるように浸漬されており、少なくも前記冷却剤浴の壁部(13)と冷却剤自体が生成されたビームに対して透明であるように構成する。
請求項（抜粋）：
放電条件下でビームを発射する充填ガスの充填された放電室と、放電の給電のための交流電源とを有する、例えば紫外線用の高出力ビーム発生器を有する照射装置であって、前記交流電源は第1および第2の電極に接続されており、前記放電室の壁部は第1および第2の誘電体により形成され、該放電室とは反対側の該誘電体の表面には格子状または網状の金属第1電極と第2電極が設けられている高出力ビーム発生器を有する照射装置において、ビーム発生器は冷却剤浴(10)に、前記第1の誘電体(1)と少なくとも前記第1電極とが冷却剤により回りを洗われるように浸漬されており、少なくとも前記冷却剤浴の壁部(13)と冷却剤自体が生成されたビームに対して透過性であることを特徴とする、高出力ビーム発生器を有する照射装置。
IPC (2件)：
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