特許
J-GLOBAL ID：200903080719318389
パターンレイアウト方法、その装置およびパターンレイアウトプログラムを記憶した媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-171676
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367890
出願日： 2001年06月06日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：
【要約】【課題】 基板上に露光される露光パターンを作成することにより、設計精度の向上、設計期間の短縮、設計ミスの低減が可能となったパターンレイアウト方法を提供する。【解決手段】 各レチクルパターン15毎に遮光帯パターン16と重ならない部分を抜き出して、露光機によって基板上に露光される露光パターン23を作る。遮光帯パターン16がレチクルパターン15に重なるような不具合があると、この露光パターン23から直ちにこの不具合を検出できる。設計精度の向上、設計期間の短縮、設計ミスの低減が可能となる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成しようとする全体パターンを複数に分割して各分割領域毎のレチクルパターンおよびこのレチクルパターン以外の領域を覆う遮光帯パターンをデータとしてCAD上に形成し、前記各レチクルパターンを順次呼び出し、この呼び出した各レチクルパターン毎に遮光帯と重ならない部分を抜き出して露光パターンを作成し、前記各レチクルパターンを前記基板上のどの位置にショットするかを示す前記露光用データにより露光パターンを基板上の該当位置に配置して基板パターンとすることを特徴とするパターンレイアウト方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 541 J
2H095BB01
, 5F056CA02
, 5F056CA28
