特許

J-GLOBAL ID：200903080722550110

電子線照射装置

発明者： 久保木 健三 ,  遠藤 一弥
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立サイエンスシステムズ
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-130471
公開番号（公開出願番号）：特開平5-325859
出願日： 1992年05月22日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】試料の周囲のみを低真空として、微細形態を観察する電子線照射装置において、試料種類により異なる低真空度の設定を自動化し、試料よりのガス放出を無視でき、また水分等の蒸発を抑えた状態での短時間観察,操作の簡便な装置を提供することにある。【構成】真空計17の真空度出力信号と真空度設定部22により設定した出力信号を比較部21で比較し、その差を増幅しモータ制御部23で信号差のレベルを判断し、モータ24に回転方向の指示を与え、比較部21の信号の信号差が零になるまでモータ24が回転し、ニードルバルブ18を回転させ導入ガス量を制御して試料室の真空度設定の自動化を行っている。

請求項（抜粋）：

電子線を発生する電子銃と、前記電子線を収束する複数個の電磁レンズを有し、電子銃内部および電子線通路は、高真空排気系につながる2ヶ以上の結合部と前記電子線を試料に照射するための開口部を有し、この開口部を境とし前記高真空排気系とは異なった真空状態を維持する電子線通路を持ち、前記試料を保持する試料台と前記開口部を相対せしめ、前記高真空排気系とは別の排気系につながる1ヶ以上の結合部を有し、真空状態を維持する機能を有する試料室とからなる電子線照射装置において、試料室の真空度を可変せしめるために、試料室もしくは試料室の真空排気系に大気あるいは適性のガスを適量導入するバルブを有するガス導入系と、試料室の真空度を検出し、設定された真空度を維持するごとく前記バルブを駆動するバルブ駆動機構を自動的に制御する機能を備えたことを特徴とする電子線照射装置。

IPC (3件)：

H01J 37/18 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-038756
  
• 特開平1-183047
  
• 特開昭54-124966