特許
J-GLOBAL ID：200903080725001737
イオンビーム制限絞り板、マスク、集束イオンビーム装置及び投射型イオンビーム装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118759
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306402
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は絞り孔側壁やマスクの開口パタ-ンの開口側壁でのイオンビ-ム散乱防止効果を高めるために絞り孔部分や開口パタ-ン部分を薄くすることができると共に、それらの長寿命化を図ることができるようにしたものである。【解決手段】図1(a)のように、未照射の絞り基板102aの、イオンビ-ムの強度を制限する絞り孔201、202の周辺の表面に溶融金属元素であるガリウム(Ga:融点約30°C)の液滴203を多数付着させる。図1(b)のようにイオンビ-ム204の照射を行うと、イオンビーム照射誘起によりイオンビーム照射領域内のみにGaが拡散し、そこを薄いGa液状薄膜203aが覆う。図1(c)のように、絞り孔202にもイオンビーム照射を行なうと、その回りの表面も液状薄膜203aで被覆される。したがって、この液状薄膜が入射ビーム204によるスパッタリングにより薄くなっても、すぐに周辺のGa液滴から流入があり、自己修復が行われる。
請求項（抜粋）：
イオンビームの強度を制限する絞り孔を有する非焼結型絞り基板と、該非焼結型絞り基板の、前記イオンビ-ム入射側における前記絞り孔周辺の表面を被覆する液状金属膜とを含むことを特徴とするイオンビーム制限絞り板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 37/09 A
, H01J 37/252 B
