特許
J-GLOBAL ID：200903080726192099
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-316432
公開番号（公開出願番号）：特開平10-156295
出願日： 1996年11月27日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：
【要約】【課題】 基板を処理する処理能力の低下を抑制すると共に、基板に薬液洗浄を施すことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 この装置は、インデクサ部21と、UVランプハウス41と、アルカリ溶液により基板を洗浄する薬液洗浄部23と、基板に付着したアルカリ溶液を水洗して除去する第1水洗部43と、超音波洗浄等を行う第2水洗部45と、スピンドライ部49と、UVランプハウス41およびスピンドライ部49とインデクサ部21との間およびUVランプハウス41と薬液洗浄部23との間で基板搬送を行う第1搬送手段29と、薬液洗浄部23から第1水洗部43を経て第2水洗部45に基板を搬送する第2搬送手段33と、搬送ハンド77とを備えている。第2搬送手段33は、長方形の基板の長辺が方向Xと平行な状態から垂直な状態に基板を水平回転して送り出す回転部31を有している。
請求項（抜粋）：
カセットに収納された長方形の複数の基板を順次取り出して所定の表面処理を行う基板処理装置において、複数の基板が収納可能なカセットを所定方向に沿って複数配列するカセット載置部と、前記カセット載置部から一定間隔だけ離間した位置に前記所定方向に沿って配置されると共に、基板の短辺が前記所定方向と平行になるように基板を水平に支持した状態で基板に所定の洗浄処理を施す洗浄手段を有する第1の洗浄処理部と、前記カセット載置部と前記第1の洗浄部との間に前記所定方向に沿って設けられた搬送路と、前記搬送路の端部に配置されると共に、基板の長辺が前記所定方向と平行になるように基板を水平に支持した状態で所定の薬液を供給して基板を洗浄する薬液洗浄手段を有する第2の洗浄処理部と、前記搬送路内を往復移動すると共に、前記カセットと前記第1の洗浄処理部との間、および前記第2の洗浄処理部と前記カセットとの間で基板の搬送を行う第1の搬送手段と、前記第2の洗浄処理部から前記第1の洗浄処理部に基板を搬送するとともに、第2の洗浄処理部から第1の洗浄処理部への基板の搬送途中で基板を90度水平回転させる回転部を有する第2の搬送手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
B08B 3/02
, H01L 21/304 341
B08B 3/02 A
, H01L 21/304 341 C
