特許
J-GLOBAL ID：200903080727211330
重合体及びその製法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-118913
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302706
出願日： 2000年04月20日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：
【要約】【課題】 高分子量のラジカル重合体の製法であって、分子量分布が狭く、低分子量品の少ない重合法及びラジカル重合体を提供する。【解決手段】水溶性または加水分解により水溶性となる1種以上のラジカル重合性モノマーを重合させてラジカル重合体を製造する方法において、特定のジチオ化合物、ラジカル重合開始剤、及び水の存在下に重合を行うことを特徴とする重合体の製法/及び得られるラジカル重合体。
請求項（抜粋）：
水溶性及び/又は加水分解により水溶性となる1種以上のラジカル重合性モノマー(a)をラジカル重合させて重合体を製造する方法において、下記一般式(1)で示されるジチオ化合物(b)、ラジカル重合開始剤(c)、及び水の存在下に重合を行うことを特徴とする重合体の製法。【化1】(式中、R1は、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜4のアルケニル基、炭素数6〜18のアリール基若しくはアラルキル基;R2はシアノ基、アリール基若しくはアラルキル基;R3、R4は水素原子、炭素数1〜30のハイドロカルビル基である)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4J011HA02
, 4J011HB14
, 4J011HB27
, 4J011NA26
, 4J011NB04
