特許
J-GLOBAL ID：200903080734035970
相対高さを検出してパターンを認識するパターン認識システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202787
公開番号（公開出願番号）：特開平5-046774
出願日： 1991年08月13日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】認識対象物ごとに、前もってマスターパターンを登録する必要がなく、また、認識対象物と背景の光の反射強度に関わらず、認識対象物の外観を容易に認識することが可能な、パターン認識システムを提供する。【構成】認識すべきパターンおよび背景を有する認識対象物の表面の複数の領域内で、前記各領域内の複数点の相対高さを測定するための相対高さ検出手段と、前記各領域における前記複数点の相対高さの標準偏差を演算する標準偏差演算手段と、前記標準偏差が一定値以上である場合、前記領域内に前記パターンと背景の境界を含むと判定する判定手段と、前記境界を含む領域の空間分布から前記パターンの外形を認識する外形認識手段とを有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
認識すべきパターンおよび背景を有する認識対象物の表面の複数の領域内で、前記各領域内の複数点の相対高さを測定するための相対高さ検出手段と、前記各領域における前記複数点の相対高さの標準偏差を演算する標準偏差演算手段と、前記標準偏差が一定値以上である場合、前記領域内に前記パターンと背景の境界を含むと判定する判定手段と、前記境界を含む領域の空間分布から前記パターンの外形を認識する外形認識手段とを有することを特徴とするパターン認識システム。
IPC (4件)：
G06F 15/70 460
, G01B 11/24
, G06F 15/62 405
, G06K 9/38
