特許

J-GLOBAL ID：200903080734997942

乾燥方法

発明者： 浅田 和己
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-326162
公開番号（公開出願番号）：特開2002-134461
出願日： 2000年10月25日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：

【要約】【課題】疎水化された表面に対しても、大量の有機溶剤を使用せずに均一に乾燥を行い、ウォーターマークの形成を防止できる乾燥方法を提供する。【解決手段】ウェハ4を純水3に浸漬させる工程(a)と、不活性ガスを供給する工程(b)と、例えばIPA蒸気および不活性ガスを供給して、純水3の気液界面にIPA層5を形成する工程(c)と、IPA蒸気および不活性ガスを供給しながら、ウェハ4をIPA層5を通過させて引き上げる工程(c)と、所定量のIPA蒸気および不活性ガスをさらに供給する工程(d)と、水洗槽2に貯留された純水3を排出する工程と、不活性ガス雰囲気に置換して、ウェハ4を乾燥させる工程(e)とを有する乾燥方法。

請求項（抜粋）：

被乾燥物を水洗槽に貯留された純水に浸漬させる工程と、前記水洗槽周囲に不活性ガスを供給して第1の雰囲気とする工程と、前記第1の雰囲気に、水と相溶する有機溶剤の蒸気および前記不活性ガスを供給して第2の雰囲気とし、前記純水の気液界面に前記有機溶剤の液層を形成する工程と、前記有機溶剤の蒸気および前記不活性ガスを前記第2の雰囲気に供給しながら、前記被乾燥物を前記液層を通過させて前記第2の雰囲気内に移動させる工程と、前記被乾燥物を前記第2の雰囲気中に移動させた後、引き続きさらに所定量の前記有機溶剤の蒸気および前記不活性ガスを前記第2の雰囲気に供給する工程と、前記水洗槽に貯留された純水を、前記第2の雰囲気の外に排出する工程と、前記第2の雰囲気を前記第1の雰囲気に置換して、前記被乾燥物を乾燥させる工程とを有する乾燥方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 9/06 ,  F26B 21/14

FI (5件)：

H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 651 J ,  H01L 21/304 651 L ,  F26B 9/06 A ,  F26B 21/14

Fターム (15件)：

3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC28 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113AC57 ,  3L113AC67 ,  3L113AC79 ,  3L113BA34 ,  3L113CB19 ,  3L113CB25 ,  3L113CB28 ,  3L113DA24