特許

J-GLOBAL ID：200903080738027255

窒素ドープガラスの製造方法

発明者： 秋山 智幸 ,  津久間 孝次
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-185153
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033447
出願日： 1993年07月27日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：

【要約】【目的】高純度の溶融可能な窒素ドープガラスを製造する方法を提供する。【構成】ケイ素ハロゲン化物の火炎加水分解法によって製造されたシリカ微粉末堆積体を、アンモニアガスを窒素源として熱処理によって窒素をドープさせた後に、不活性雰囲気下で温度1700°C以上2000°C以下、圧力1000kg/cm2以上2000kg/cm2以下で熱間静水圧処理を行い、窒素ドープガラスを製造する。

請求項（抜粋）：

ケイ素ハロゲン化物の火炎加水分解法によって製造されたシリカ微粉末堆積体を原料とし、アンモニアガスを窒素源として熱処理によって窒素をドープさせた後に、不活性雰囲気下で高温高圧処理を行う事を特徴とする窒素ドープガラスの製造方法。

IPC (4件)：

C03B 8/00 ,  C03B 19/14 ,  C03B 20/00 ,  C03B 32/00