特許

J-GLOBAL ID：200903080739603144

被処理基板の処理方法及び薬液処理装置

発明者： 佐藤 正人
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-186634
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015468
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 被処理基板を薬液処理した後の薬液を再利用することにより製造コストを低減できる被処理基板の処理方法及び薬液処理装置を提供する。【解決手段】 本発明に係る薬液処理装置は、処理槽10を用いてウエハ25を薬液処理するものである。この薬液処理装置は、上相に純水13、下相に薬液11を互いに分離した状態で入れるための処理槽10と、処理槽10でウエハ25を薬液処理した後の薬液及び純水を精製する精製器17と、精製器17により精製された薬液及び純水を再び処理槽10に戻す配管18,19と、を具備するものである。これにより、被処理基板を薬液処理した後の薬液をリサイクル使用できる。

請求項（抜粋）：

上相の純水と下相の薬液が互いに分離した状態で入れられた薬液処理槽を用いて被処理基板を処理する処理方法であって、前記薬液処理槽内の下相の薬液に前記被処理基板を入れる工程と、前記薬液処理槽内で前記被処理基板を前記下相の薬液中から前記上相の純水中に引き上げる工程と、を具備することを特徴とする被処理基板の処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 642 ,  B08B 3/04

FI (2件)：

H01L 21/304 642 D ,  B08B 3/04 B

Fターム (11件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CD22