特許
J-GLOBAL ID：200903080746053206
投影露光装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-252528
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086154
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に転写する投影露光装置において、簡易な構成によつて感光基板上の露光パターンの結像状態を補正する。【構成】マスクM1の位置及び感光基板Pの位置が共役な位置関係となるように感光基板Pの位置を補正するようにしたことにより、感光基板P上に結像するマスクパターンの結像状態を良好に保つて露光を行うことができる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に転写する投影露光装置において、上記マスク面及び上記投影光学系間の距離を複数ヶ所について測定し、上記測定結果が所定の設定値に対して変位しているとき、当該変位量を検出する検出手段と、上記検出手段の検出結果に基づいて上記感光基板を上記投影光学系の光軸方向に移動及び又は上記光軸に対して傾ける駆動手段とを具えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
