特許

J-GLOBAL ID：200903080750243176

塩素系物質の処理方法および塩素系物質の処理装置

発明者： 鈴木 節雄 ,  野田 悦夫 ,  竹山 典男
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-250419
公開番号（公開出願番号）：特開平9-085047
出願日： 1995年09月28日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】従来は、紫外線発生器に水銀ランプを使用しており、光強度が低く、フロン分解処理能力が低いことが欠点であった。【解決手段】真空紫外光を透過する円筒状窓4の内部である分解処理領域8にフロンを流す。鏡面状に表面処理された面5を持つ高電圧円筒電極1と絶縁製管2と開口円筒電極3とが同軸円筒状に配置されている。開口円筒電極3と絶縁製管2との間の放電空間6にはあらかじめ波長が120〜180[nm]の光を発する例えばキセノンが封入されて、高電圧円筒電極1と開口円筒電極3の間に極性反転電圧を印加することにより放電空間6に誘電体障壁放電が発生する。誘電体障壁放電から発する真空紫外光が開口円筒電極3を透過し、開口円筒電極3と任意の距離を隔てて設けてある円筒状窓4を透過して円筒状窓4内部に流れるフロンに照射され、フロンが光分解され塩素ガスやフッ素系高分子として処理される。

請求項（抜粋）：

塩素系物質に、酸素雰囲気中で、波長120〜180[nm]の真空紫外光を照射し、塩素系物質を分解することを特徴とする塩素系物質の処理方法。

IPC (4件)：

B01D 53/70 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (4件)：

B01D 53/34 134 E ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB