特許
J-GLOBAL ID:200903080758807524
顔料ナノ粒子の新規な製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮本 晴視
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-252389
公開番号(公開出願番号):特開2004-091560
出願日: 2002年08月30日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【課題】環境に優しく、高効率で有機顔料微結晶。特にナノレベル有機顔料微粒子を製造する方法の提供、【解決手段】有機顔料をアミド系溶媒、特に1-メチル-2-ピロリジノンを少なくとも50容量%以上含む有機溶媒に溶解させた後、前記溶媒と相溶性であり前記有機顔料に対する貧溶媒中に前記顔料溶液を撹拌条件下で注入することを特徴とする高濃度の前記有機顔料のナノサイズの微粒子を製造する方法。顔料としてはキナクリドン顔料、フタロシアニン顔料などであり、製造条件として、常圧〜亜臨界乃至超臨界状態で実施可能出る。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
有機顔料をアミド系溶媒を少なくとも50容量%以上含む有機溶媒に溶解させた後、前記溶媒と相溶性であり、且つ前記有機顔料に対しては貧溶媒となる溶媒中に前記顔料溶液を撹拌条件下で注入することを特徴とする高濃度の前記有機顔料のナノサイズの微粒子を製造する方法。
IPC (3件):
C09B67/02
, C09B67/10
, C09B67/20
FI (3件):
C09B67/02 Z
, C09B67/10
, C09B67/20 A
引用特許:
審査官引用 (6件)
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有機顔料の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-293899
出願人:大日本インキ化学工業株式会社
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特表平6-501872
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沈殿による有機顔料の粉砕方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-301066
出願人:クラリアント・ゲーエムベーハー
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