特許
J-GLOBAL ID:200903080777079793

平滑化処理方法及びそれにより得られる物品

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-213370
公開番号(公開出願番号):特開2004-050711
出願日: 2002年07月23日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
【課題】プラスチックフィルム基材やプラスチックフィルム基材上に薄膜を形成した物品、及びガラス基板やガラス基板上に薄膜を形成した物品において、それらの物品表面の凹凸を低減し、またプラスチックフィルム基材やガラス基板上にピンホールの無い、均一なガスバリア層が形成できる、表面が平滑な透明物品とその平滑化処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】被加工物を、反応ガスを含む雰囲気中に配置し、被加工物に電気エネルギ-または光エネルギーを加え、プラズマを発生させ、被加工物を構成する原子または分子を揮発性物質に変えて、被加工物の少なくとも片面を平滑化処理する方法で、被加工物が基材自体、基材上にガスバリア層を積層したもの、基材上にガスバリア層、透明導電層を積層したものの中の少なくとも一つであり、被加工物表面の凹凸が低減され、表面平滑性が向上した物品が得られる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被加工物を、反応ガスを含む雰囲気中に配置し、被加工物に電気エネルギ-または光エネルギーを加え、プラズマを発生させ、被加工物を構成する原子または分子を揮発性物質に変えて、被加工物の少なくとも片面を平滑化処理するもので、被加工物が基材自体、基材上にガスバリア層を積層したもの、基材上にガスバリア層、透明導電層を積層したものの中の少なくとも一つであることを特徴とする平滑化処理方法。
IPC (4件):
B29C59/14 ,  B32B7/02 ,  B32B9/00 ,  C08J7/00
FI (4件):
B29C59/14 ,  B32B7/02 104 ,  B32B9/00 A ,  C08J7/00 306
Fターム (47件):
4F073AA10 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4F073CA67 ,  4F100AA17B ,  4F100AA17C ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EJ59 ,  4F100EJ592 ,  4F100EJ60 ,  4F100EJ602 ,  4F100EJ61 ,  4F100EJ612 ,  4F100GB23 ,  4F100GB41 ,  4F100GB66 ,  4F100JD02 ,  4F100JD02B ,  4F100JG01C ,  4F100JK14 ,  4F100JN01B ,  4F100JN01C ,  4F209AA24 ,  4F209AC03 ,  4F209AD08 ,  4F209AD20 ,  4F209AD32 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AG26 ,  4F209AH42 ,  4F209AH54 ,  4F209AH73 ,  4F209PA14 ,  4F209PB02 ,  4F209PC16 ,  4F209PG01 ,  4F209PG05 ,  4F209PG14
引用特許:
審査官引用 (3件)

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